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用氟硅酸鉀滴定法測定二氧化硅原理介紹
來源：本站 發(fā)布時間：2021-12-20 15:19:39
二氧化硅滴定法均為間接法，氟硅酸鉀容量法應(yīng)用*廣，確切的說法應(yīng)為氟硅酸鉀沉淀分離法。該方法的原理是將含有硅的樣品與苛性堿、碳酸鈉等共融。
產(chǎn)生可溶硅酸鹽，可溶硅酸鹽在大量氯化鉀和F-存在下定量沉淀形成氟硅酸鉀(K2SiF6)。在沸水中分分析了氟硅酸鉀(HF)，采用標(biāo)準(zhǔn)氫氧化鈉溶液滴定。對其含量進行間接測定。關(guān)鍵反應(yīng)：
H2SiO3=+3H2F2=H2SiF6+3H2O………(3)
Na2SiO3=+2HCl=H2SiO3=+2NaCl………(2)
SiO2+2NaOH=Na2SiO3=+H2O………(1)
H2SiF6+2KCl=K2SiF6↓+2HCl………(4)
K2SiF6+3H2O=4HF+H2SiO3+2KF………(5)
HF+NaOH=NaF+H2O----------------(6)
盡管表面看來這一過程似乎是試樣溶解產(chǎn)生K2SiF6，但要獲得準(zhǔn)確的測定結(jié)果，需要從K2SiF6中分離出HF—用標(biāo)準(zhǔn)氫氧化鈉溶液來計算含硅量，這一過程并不復(fù)雜，在實際應(yīng)用中必須注意一些關(guān)鍵的環(huán)節(jié)，才能獲得準(zhǔn)確的測定結(jié)果。
上述(1)表示含硅樣品的分解，也可用HF分解樣品。H2SiO3(3)在HCl存在下，分解樣品中的硅酸鹽轉(zhuǎn)變?yōu)镠2SiO3(3)(4)H2SiO3在大量氯化鉀和F-存在下產(chǎn)生K2SiF6沉淀(5)K2SiF6沉淀(5)K2SiF6沉淀生成HF(6)以氫氧化鈉標(biāo)準(zhǔn)溶液HF，硅量的間接測定。